如何在半导体制造中巧妙利用发饰效应优化光刻过程？
在半导体制造的精密工艺中，一个常被忽视却又至关重要的因素是“发饰”效应——即光线在通过光刻掩模时，由于边缘衍射和散射造成的光强分布不均现象，这一现象虽与日常生活中的发饰无直接关联，但若能巧妙利用其特性，将能显著提升光刻的精度与效率。在半导体...
在半导体制造的精密工艺中，一个常被忽视却又至关重要的因素是“发饰”效应——即光线在通过光刻掩模时，由于边缘衍射和散射造成的光强分布不均现象，这一现象虽与日常生活中的发饰无直接关联，但若能巧妙利用其特性，将能显著提升光刻的精度与效率。在半导体...