在半导体制造的微细加工与光刻技术中,镜子不仅仅是一件日常用品,它还扮演着至关重要的角色,一个常被忽视的问题是:为何高反射率的镜子对半导体工艺如此关键?
答案在于光的精确控制和利用,在光刻过程中,光线通过复杂的透镜系统被精确地投射到硅片上,形成电路图案,而这一过程的基石,就是使用高反射率的镜子来引导和集中光束,这些镜子需具备极高的表面平整度和光学纯度,以减少光散射和吸收,确保光线的有效传输和聚焦。
在半导体检测和测量中,反射镜也用于精确地反射和引导激光束,进行高精度的尺寸和形状测量,可以说,没有这些“半导体级”的镜子,我们无法实现现代半导体工艺的微米甚至纳米级别的精度要求。
虽然镜子看似简单,但在半导体领域中,其“半导体”般的精准与高效,却是推动技术进步不可或缺的基石。
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