在半导体制造的洁净室环境中，微小的颗粒物和有机物残留是导致异味产生的主要原因，为了维持高洁净度和工作环境舒适度，除臭剂的应用显得尤为重要，这一领域面临两大挑战：
1、化学兼容性：半导体生产过程中使用的许多化学物质对普通除臭剂具有破坏性，选择与半导体制造流程中使用的化学品兼容的除臭剂是关键，这要求除臭剂不仅需具备高效的除臭能力，还需具备高度的化学稳定性。
2、微粒控制：半导体制造对空气中的微粒控制极为严格，传统除臭剂可能释放出微小颗粒，影响洁净室的洁净度，开发无颗粒释放或颗粒极小的除臭技术成为当前研究的热点。
如何在保证除臭效果的同时，确保与半导体制造流程的化学兼容性并控制微粒释放，是半导体洁净室除臭剂应用中亟待解决的问题，通过材料科学和纳米技术的进步，有望实现更加高效、环保且与半导体生产环境高度兼容的除臭解决方案。
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